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征文要求
本次会议内容包括交流我国在MOCVD技术领域方面的新进展与新成就，探讨MOCVD技术及相关领域发展的方向及措施等方面。具体议题如下：
1、源材料（MO源、衬底等）
2、设备的开发与研制
3、各种薄膜材料的生长和制备（III-V族化合物、II-VI族化合物及其它）
4、生长机理和动力学研究
5、其它相关技术
为了做好本次会议的学术交流，特向与会人员征集论文。凡符合会议议题且未在国内外学术刊物或会议上发表过的文章均可投稿。所有论文将出版会议文集，优秀论文将推荐到《材料学报》和《人工晶体学报》正式出版，欢迎大家踊跃投稿。
征文要求如下：
1，属于本次会议议题内容；
2，尚未在国内外公开刊物或其它学术会议上发表；
3，论文应反映MOCVD及其相关技术领域最新研究成果；
4，论文数据可靠、结论准确。
会议回执和论文摘要将在第二轮通知发出后（2004年11月）填报。
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