会议公告

由中国有色金属学会主办、中国科学技术大学承办的第九届全国MOCVD会议将于2005年4月在古城合肥召开。本次MOCVD会议旨在为我国从事MOCVD工作的单位和人员提供相互了解和交流的机会，充分展示我国在这一领域的新进展和新成就，探讨急需解决的问题和将来的发展方向，促进MOCVD相关产业和研究机构的联系与沟通，建立更加密切的合作关系。 　　我国的MOCVD工作始于1986年，至今已走过18个年头。从最初的4，5个单位发展至今，已有40多个单位开展了MOCVD工作，建立起了MO源的生产基地、MOCVD设备和相应测试设备的制造和销售等有关科研机构和产业。我国的MOCVD工作方兴未艾，每年都有新的单位加入到这一行列中来。本届大会预计到会人数将超过120人。 　　为此目的，本届会议的筹备工作将围绕以下几个方面进行：

　　1，为了将此次会议办成高水平的学术会议，将广泛邀请国内外知名人士和专家学者出席会议作报告。目前同意出席会议的有日本东京大学尾锅研太郎教授、台湾成功大学李清庭教授等专家以及多名两院院士。另外我们还将邀请有色金属学会、自然科学基金委等相关机构的负责人出席本次会议。

　　2，为了反映各单位所进行的卓有成效的工作和令人瞩目的成就，增进各个单位之间的相互了解，并为给新加入MOCVD研究行列的与会人员提供可供参考的资料，会议期间计划用图文展览的形式展示我国MOCVD工作的发展历程和研究现状。大会筹备组向全国各有关单位广泛征集有关的图片和文字资料，希望各单位能在2004年11月30日之前将这些资料寄给我们。

　　3，我们将广泛邀请和热烈欢迎相关企业和生产厂家参加会议，以加强科研机构和产业的联系和交流。请有意参会参展的单位与我们联系，并提出建议。

　　4，筹备工作的日程安排如下：

　　04年6月底至7月初　陆续向有关单位和人员发出邀请邮件，收到邮件后请回复，以便确认邮路畅通。
　　04年8月底至9月初　发出第一轮征文通知，征集论文摘要。
　　04年11月下旬　发出会议回执。
　　05年2月下旬　发出最后一轮通知。

　　会议筹办小组希望征求各界人士对上述设想的意见，也希望提出建议和要求，与筹备小组的联系均可通过本网站首页所提供的E-mail地址进行。